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웨이퍼 범핑 주석-은 SnAg 도금의 전류밀도 특성과 도금용액의 안정성
The Stability of Plating Solution and the Current Density Characteristics of the Sn-Ag Plating for the Wafer Bumping

등록 2017.10.17 ⋅ 130회 인용

출처 한국표면공학회지, 50권 3호 2017년, 영어 9 쪽

분류 연구

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카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.04.02
주석은합금도금액의 금속 이온농도와 적용된 전류밀도의 영향을 납땜범프 표면의 결과 구성 및 형태와 관련하여 조사했다. 또한 주석-은 Sn-Ag 납땜 도금액에서 염기산으로 사용되는 메탄설폰산에 존재하는 불순물이 도금액의 안정성과 Sn-Ag 합금 도금의 특성에 미치는 영향도 조사했다. 예상대로 도금용액의 불순...
  • 로당가리 ㆍ Rhodanide ^ potassium thiocyanate [티오시안산칼륨] 을 말한다. 참고 wiki 티오시안산
  • 양극산화 피막의 성장기구를 명확히 알기 위해서는 산화피막의 생성, 용해, 전해액 성분의 피막으로의 도입 등에 대하여 분석할 필요가 있다. Ono는 마그네슘의 양극산...
  • 일반식의 피리디늄 화합물이 첨가제로서 용해되지 않은 pH 3.5~7.5 의 산성아연 전기도금조가 제공된다. 벤젠 또는 나프탈렌 설폰산 또는 이의 염과 포름 알데하이드의 수용...
  • 전류효율을 측정하고 헐셀시험을 통해 사전트욕 (CrO3 250 g/l 및 H2SO4 2.5 g/l) 에서 Cl-, NO3- 및 PO43- 과 같은 음이온성 불순물의 불리한 효과와 허용양과 규불화...
  • 구연산니켈 욕으로 부터 메탄설폰산, 나프탈렌설폰산 및 페놀설폰산의 전착 영향에 대해 조사하였다. 음극효율 및 투사전력과 같은 특성이 평가되었으며 피막의 내부식성은 ...