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전석법에 의한 Ni-S 합금의 석출과정과 비정질막의 형성
Thedeposition process and preparation of amorphous film on Ni-S alloy by electrodepositing method
등록
:
2008.09.18
⋅ 40회 인용
출처
:
표면기술
, 42권 5호 1991년, 일본어 5 쪽
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
Akira NARITA
1)
Tohru WATANABE
2)
기타
:
자료
:
분류 :
니켈-유황
⋅
정전위
⋅
분극측정
⋅
구연산소다
⋅
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도금인의 소식지 표면처리세계
도금 광택제 만들기
광택제를 만들자
자료요약
카테고리 :
니켈/합금
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.10.17
Ni-S 전석막의 석출기구에 관한 검토로, 정전위전석법 및 캐소드 분극측정에 따른 고찰
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