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전석법에 의한 Ni-S 합금의 석출과정과 비정질막의 형성
Thedeposition process and preparation of amorphous film on Ni-S alloy by electrodepositing method

등록 2008.09.18 ⋅ 45회 인용

출처 표면기술, 42권 5호 1991년, 일본어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.10.17
Ni-S 전석막의 석출기구에 관한 검토로, 정전위전석법 및 캐소드 분극측정에 따른 고찰
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  • Al-Mg 합금의 나노구조 전환피막은 25 ℃ 에서 10분간 지르코늄 티타늄염 용액으로 표면처리하여 얻었다. 지르코늄 티타늄 염 용액은 탄닌산 1.00 g⋅L-1, K2ZrF6 0.75 g⋅L-1,...
  • 크롬-코발트 Cr-Co 합금욕의 조성, 전해조건과 피막의 조성, 광학특성 및 내열성의 관련성을 조사하고, 태양열선택 흡수피막으로서의 가능성을 검토하고, 흑색피막중의 크롬...
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  • 도금필름의 모든 물리적 특성은 도금필름의 결정 구조에서 파생됩니다. 도금막은 "막"이지만, 성장함에 따라 다양한 방식으로 변화하는 섬세한 구조를 가지고 있다. 정확하...