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헐셀(Hull Cell)의 전류분포에 대한 고찰
A study of the electric current distribution in Hull Cell

등록 2008.08.02 ⋅ 105회 인용

출처 금속표면기술, 27권 12호 1976년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.06.26
헐셀을 이용한 황산구리도금으로 만든 피막을 음극각부의 전류분포를 구하고, 등각여상법을 이용한 이론적인 전류밀도분포를 구하여, 실험결과와 비교검토한 자료
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  • 표면처리에 사용되는 전처리액, 도금액의 분석에 사용되는 분석방법에 관한 해설 [表面処理液の代表的な組成とその分析方法]
  • 본장에서는 다음과 같은 부품표면에 가해지는 산업적공정에 대하여 다룸: 1) Chemical cleaning 2) Mechanical cleaning and related surface treatments 3) Diffusion and ...
  • 수용성 염화아연 도금 광택제는 광택제의 성능을 향상시키고 생산 및 사용 공정에서 제품의 오염을 줄이기 위해 비율과 가공 기술을 향상시킨다. 효과를 달성하기 위해 수용...
  • 배선밀도의 고밀도화가 진행되어, 무전해도금기술의 필요성이 높아, 무전해 귀금속 도금 프로세스의 연구개발이 활발히 움직이고 있다. 전자부품을 향한 무전해 금 은 ...