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분류식 도금장치로 도금막에 대한 막 두께분포의 CVS 해석
CVS analysis of thickness distribution on electrodeposits formed by spouted plating equipment

등록 2008.08.02 ⋅ 67회 인용

출처 표면기술, 47권 10호 1996년, 일어 2 쪽

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.16
CVS 법을 응용하여, 분류식 전기도금 장치에 있어서 도금막 두께분포 해석을 시험한 결과 보고서
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  • As-Sb 합금(0.70-95.81 wt.% As)은 As(III) 및 Sb(III) 함유 전해질에서 전착하였으며, 전착물의 조성 및 구조가 미치는 영향을 연구했다. 염산 용액에서 As(III) 및 Sb(III...
  • Magni 코팅은 코팅제의 다양한 종류 및 용도, 그리고 내식성, 마찰계수 및 방식 방법 등 모든 성능에 있어서 다른 코팅에 비해 우수하여 볼트, 너트 등의 Fastener 제품에 ...
  • 크롬산 용액 중의 3가 크롬 이온과 황산의 양을 변화 시켰을 때 크롬산 용액 중의 6가 크롬 이온의 전착 반응에 수반하는 음극 분극 곡선의 변화를 검토했다. 3가 이온과 황...
  • 탄화규소 SiC ㆍ Silicon Carbide 무색 투명의 결정으로 다이아몬드와 유사한 결정구조로 비중 3.12, 융점 약 2700 ℃ 로, 연마재 또는 공구ㆍ전기발열체ㆍ고온구조체 등에 ...