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습식에칭의 기초와 응용
Wet etching -theory and application

등록 2008.09.03 ⋅ 65회 인용

출처 표면기술, 49권 10호 1998년, 일본어 7 페이지

분류 연구논문

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2012.11.08
인쇄제판 및 예술분야에서는 에로부터 습식에칭은 포토레지스터와 아트웍의 제판기술로 발전하여, 반도체산업과 전자 전기기계의 부품제조등에 없어서는 않될 중요기술로 발전하였다. 습식에칭 특히 포토에칭의 기초와 프로세스에 관하여 간단한 설명과 취근의 응용제품에 관하여 그 특징을 설명
  • 카드뮴 Cd 는 우수한 내식성과 엔지니어링 특성으로 인해 부식방지 도금으로 광범위하게 사용되었다. 그러나 독성 때문에 대체 도금이 필요했다. 아연-니켈 Zn-Ni 합금도금...
  • 도금액중의 메릿트산의 정량 코우마린의 메릿트산에의 환원 및 메릿트산의 니켈도금의 연전성에 있어서 영향에 관한 정량적인 보고하였다.
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  • 표면처리공업에 사용되고 있는 불용성 아노드가 가진 성질에 관하여 특징을 설명
  • 졸겔법의 출발원료 화합물을 크게 분류하면 금속 Alkoxide, 금속아세틸아세트산염, 금속옥살산염, 금속무기화합물, 산화물 등이 있다. 이중에 금속 Alkoxide 가 반응성이 좋...