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새로운 구리의 화학 에칭 처리제
A novel chemical etching reagent for copper
자료 :
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- 분류 : 화학에칭 ⋅
자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.20
온화한 조건하에서 구리에 대한 선택적으로 사용하는 새로운 화학에칭처리법의 개발
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크롬도금의 이론적 고찰과 함께 피스톤링 홈의 크롬도금시에 지금까지 사용되어 온 철 양극과 산성 용액에서 강한 내식성을 나타내는 납의 특성을 이용하여 철양극에 납도금...
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팔라듐을 전기 분해하여 석출시키기 위한 산성 수용성 팔라듐 전해 도금조와 이것의 제조 및 사용에 관한 것으로, 간단하며, 안정할 뿐 아니라 현저하게 높은 도금 효율을 ...
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전기 · Electric Power 전기는 영어로 Electricity 라고 하며, 그리스어의 일렉트론 (Electron) 에서 유래한 말로 호박을 뜻한다. 기록에 의하면 기원전 600년경 그리스 사...
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갈바노스태틱 (galvanostatic) 및 포텐시오 스태틱 (potentiostatic) 조건하에서 염화물 욕에서 철기반의 아연-코발트 Zn-Co 합금의 전착이 수행되었다. 도금액의 전류밀도,...