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광택도금연구에 이용되고 있는 전기화학적 측정법
Electrochemical measurement used in studies of bright plating

등록 : 2008.08.23 ⋅ 35회 인용

출처 : 금속표면기술, 34권 8호 1983년, 일어 8 쪽

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자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

光沢めっき研究に用いられる電気化学的測定法

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.03.23
현재까지도금과 제작기 관련된 분야로 사용되고 있는 전기화학적측정법에 관하여 설명
  • 여러 종류의 니켈도금의 전착 응력과 경도 및 신율과의 관계를 검토하고, 이중 니켈도금 하지의 반광택 니켈도금에 관하여 보고
  • 알칸설폰산욕 ^ Alkan Sulfonic acid Bath 설폰화 유기산을 말하여 도금에서는 [메탄설폰산] (Methan Sulfonic Acid) 을 주로 사용한다. 참고 [알칸설폰산솔더욕|알칸설폰산...
  • 직접 구리 무전해도금을 사용하여 텅스텐소재상에 구리를 도금하였다. 최적의 전착조건은 CuSO4 7.615 g/L의 농도, 10.258 g/L의 EDTA 및 7 g/L의 글리옥실산을 갖는 것으로...
  • 버프硏磨加工技術 - 硏磨作業의 效率을 高度化하기위해 - Buff 가공은 일반적으로 버프 연마라고 불리우며 헝겁, 휄트, 가죽등으로 만들어진 원형 물체의 원주표면에 직접 ...
  • 티타늄 판 상에 산화 티타늄 막을 제조하는 방법으로서, 졸겔법, CVD법, 복합 도금법 등이 여러가지 방법이 있지만, 그 하나인 양극 산화법은 티탄판을 전해 용액 중에 침지...