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도금기술을 이용한 다공질재료의 개발
Development microporous materials Using for plating technology
등록
:
2008.08.25
⋅ 35회 인용
출처
:
na
, na, 일본어 3 페이지
분류
:
연구
자료
:
있음(다운로드불가)
저자
:
中寸知彦
1)
松田 実
2)
기타
:
자료
:
분류 :
복합도금
⋅
공석입자
⋅
분산첨가제
⋅
목록
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오늘의 공부
알루미늄 표면처리제
자료요약
카테고리 :
응용도금
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.11
저 코스트로 고 개공율을 얻을수 있는 다공질재료제작기술로서 복합도금을 적용하는 시험을 하고, 공석입자를 도금막 내부의 공석생성물질로서, 욕중의 분산첨가제량과 분해제거방법의 검토를한 결과를 보고 [めっき技術を利用した多孔質材料の開発]
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