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전기화학 임피던스 분광법 (EIS) 의 기본원리
NA

등록 2008.08.09 ⋅ 7300회 인용

출처 YI-AN-0504-0013EN, 2권 April 2005년, 한글 2 쪽

분류 교재

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자료요약
카테고리 : 교재참고자료 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2020.12.22
전기화학 임피던스 분광법은 주파수가 다른 미소한 교류신호를 셀에 부여하여 임피던스를 계측하는 방법이다. 이는 다양한 기술과 출력형태가 가능하고, 부식, 반도체, 연료전지, 전기도금 그리고 전기-유기합성 연구에 사용되고 있다. 첨부자료참조 : sc260720_001.pdf
  • 일반적인 전기도금셀은 양극, 음극, 금속 수용액 및 전원 공급 장치로 구성된다. 단순화된 예에서 희생양극은 니켈로 만들어지고 음극은 다른 전도성 물질로 만들어지며 금...
  • 수산화나트륨과 산화아연으로 만든 기본 아연치환액에 철을 첨가한 아연치환액을 이용하는 경우 기본표면에 형성된 아연치환막의 성장과정, 무전해 니켈-인 도금할때의 피막...
  • 치환반응 ^ Substitution reaction 치환반응은 분자의 원자·원자단이 다른 원자 또는 원자단으로 교체되는 반응을 의미한다. 대표적인 치환반응으로는 SN1, SN2 반응 등이 ...
  • 2. 공장의 설비 배치와 바닥의 정리 3. 폐수의 분별방법과 처리수준 4. 전처리, 도금후처리 방법과 재료의 재검토 등
  • 기존 및 새로운 전기화학 분석 방법을 사용하여 Cu 전기화학 연마의 메커니즘과 거동을 조사하였다. Cu 용해의 경우 연마 유무에 따라 LSV(linear scan voltammetry)와 SEM(...