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등속 전기영동법에 의한 무전해 니켈도금욕의 분석
Analysis of electroless nickel plating bath by Isotachophoresis

등록 : 2008.08.09 ⋅ 26회 인용

출처 : 금속표면기술, 36권 3호 1985년, 일본어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.09
환원제가다른 도금욕중의 성분의 동정 및 도금속도와 욕조성의 관계 및 미량금속에 관하여 검토
  • 다이나믹 도금셀 (HETC) ^ Hydrodynamic Electroplating Test Cell HETE 는 1994 년 경 "Shi-Chern Yen" 과 "I- Mon Lu" 가 고안한 두개의 차단 전극이 서로 90° 를 가진 회...
  • 초소형 전자기기의 성능이 크게 향상되면서 금 Au 도금 제조공정에 대한 수요가 증가했다. 지속적인 도금욕 관리와 이에 따른 시너지 작동 모델의 적용을 통해 고품질의 금 ...
  • 특허 정보에 대한 액세스는 일반적으로 특허 분류가 사용된다. 특허 분류에 널리 보편적으로 사용되는 국제 특허 분류 (IPC)와 국가별 분류가 있다. 일본 고유의 분류로는 F...
  • 대부분의 작업자는 산세용액의 산 함량을 제어하지 않으며 단순히 농도를 추측하는 사람이 여전히 많다. 염산 산세조에 대한 이러한 일반적인 관심 부족은 주제에 대한 글이...
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