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실리콘 소재상에 형성된 금속 나노로드 크기와 무전해 도금막의 일착성
Effect of Metal Nanorod size on adhesion of electrolessly plated film on silicon

등록 2013.10.25 ⋅ 19회 인용

출처 표면기술, 63권 12호 2012년, 일어 3 쪽

분류 연구

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기타

シリコン基板上に形成した金属ナノロッドの太さと無電解めっき膜の密着性

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.25
비교적 전도성이 낮기 때문에 후막이 필요함과 소성에 의한 열 영향, 규소 Si 표면에 반사 방지를 위해 형성된 요철 구조에 의한 인쇄번짐 등의 과제가있다. Si 반도체도 있기 때문에, 전해 및 무전해 도금 밀착성이 좋은 박막을 직접 형성하는 것이 어렵다. 그 대책으로서 촉매화 처리로 불소 이온을 함유하는 수용액에서 ...
  • 도전율과 비중을 측정하여, 산세액 및 활성화액중의 산농도, 금속농도를 구하는 방법에 관하여, 측정기구, 검량선의 작성방법, 온도보정방법, 수치읽는방법등에 관한 설명
  • 크롬합금 도금에 관한것이다. 보다 구체적으로, 이는 밝고 광택이 있는 표면을 갖는 크롬합금의 피막을 전착하는 방법 또는 공정, 그리고 사용 된조 및 그에 의해 생성된 피...
  • 장식크롬도금에 있어서 강전류부분의 도금은 두께가 두꺼워 소지까지 도달하는 크랙이 발생하게 됩니다. 이것은 내식에 악영향을 주는것으로 알고 있으며, 이를 방지하는 방...
  • 전도성 조성은 적동 (Red Copper) 로 만들어 졌으며, 고압 스위치 재료인 망간-청동과 벨릴륨-청동은 황산과 질산을 혼합된 산에 산처리하였으며, 이 과정에서 환경에 ...
  • 유기첨가제의 구조와 내부응력의 변화와의 관계를 검토하고, 다른 유기첨가제를 선택하여 그 내부응력에 있어서 영향에 관하여 검토