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전자 장치용 적층 구조체 및 무전해금 Au 도금 방법
Electric device layers structure and Electroless gold plating mentod

등록 : 2008.08.20 ⋅ 27회 인용

출처 : 한국특허, 20002-0040597, 한글 9 페이지

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2021.01.05
전자 장치용 적층 구조체는 구리박을 갖는 프린트회로 기판과, 주석 또는 은 Ag 으로 이루어지고 프린트 회로 기판상에 형성된 언더코트 도금층과, 무전해도금에 의해 언더코트 도금층상에 형성된 금 Au 도금층을 포함
  • 2가 철이온의 산화는 도금액의 변색, 도금피막 중 철함유량의 저하, 전류 효율의 저하를 일으키기 때문에 희생산화제나 산화방지제의 첨가가 필요하다. 그러나, 화합물 첨가...
  • 정확하며 실시간 탱크내 응력 측정을 기본으로 하는 첨가물을 제작하므로 실제로 낮은 응력 조건의 탱크 내부를 유지 첨부자료참조 : sc261122007.pdf
  • 플라스틱 광학은 종종 사출, 압축 또는 사출 압축 성형으로 대량 생산된다. 광학품질의 금형은 적절한 재료 (공구강, 무전해니켈, 알루미늄 등)로 직접 가공할수 있지만 전...
  • 무전해 니켈도금의 박리방법을 가르켜 주십시요!
  • 니켈스피드욕 (설파민산욕) ^ Nickel Speed Plating Bath 설파민산 니켈도금]|1| 600 g/l 설파민산니켈 5 g/l 염화니켈 40 g/l 붕산 pH 3.5~4.0 온도 60 ℃ 전류밀도 5~40 A/...