HOME
공지사항
표면세계
웹매거진
PlatinG Zone
도금기술노트
도금기술문헌
도금기술QnA
TecH Zone
조제기술지원
도금재료자료
약품조제 QnA
주기율표
FreE Zone
도금만평
관련사이트
Best Friend
Mail@Admin
로그인
회원가입
로그인이 필요합니다.
회원가입
HOME
공지사항
표면세계
웹매거진
PlatinG Zone
도금기술노트
도금기술문헌
도금기술QnA
TecH Zone
조제기술지원
도금재료자료
약품조제 QnA
주기율표
FreE Zone
도금만평
관련사이트
Best Friend
Mail@Admin
로그인
로그인 상태 유지
ID/PW 찾기
로그인
아직 회원이 아니신가요?
회원가입 하기
검색
검색
표면처리기술문헌 :
습식표면처리 연구문헌자료
검색글
10989건
제목
영어제목
제목+내용
내용
키워드
출처
권호년
저자1
저자2
저자5외/이력
기타/참조
취소
Real Web Magazine
습식도금 자료분류
자료수
10990 건
+
일반자료통합
1720
종합자료
290
시험분석
338
설비관련
107
약품관련
30
응용도금
358
도금자료기타
561
+
전후처리통합
529
산세/탈지
258
엣칭/부식
141
연마/연삭
90
전후처리기타
7
+
전기도금통합
3935
아연/합금
685
구리/합금
777
니켈/합금
622
크롬/합금
399
석납/합금
337
금은/합금
404
합금/복합
301
전기도금기타
356
+
무전해도금통합
2682
구리/Cu
457
니켈/Ni
768
금/Au
159
합금/복합
787
치환도금
54
비금속무전해
185
무전해도금기타
185
+
화성처리
1041
착색
85
양극산화
299
크로메이트
204
화성피막
354
코팅/도장
51
열처리경화
5
화성처리기타
5
+
기타기술자료
602
인쇄회로
167
건식도금
13
소재관련
32
경금속처리
243
기술자료기타
139
+
폐수환경통합
378
폐수처리
215
회수재생
147
대기환경
4
폐수환경기타
5
+
교재참고자료
72
일반기술
4
일반교재
7
기타교재
추천글
Fe 36 wt % 니켈 Ni 합금 전...
인산염피막의 결정 구조와 ...
금 Au 광택 도금욕 조성
접점상에 입힌 금 Au 및 팔...
산성 황산구리 도금용욕에 ...
Tag LIST
니켈도금
구리도금
합금도금
크롬도금
폐수처리
양극산화
복합도금
인쇄회로
니켈-인
금도금
무전해구리
아연-니켈
EDTA
무전해니켈
마그네슘
크로메이트
전처리
무전해도금
펄스도금
무전해구리도금
알루미늄
무전해 용액에 안정제를 사용하여 퓨즈 도금 방지
Using stabilizers in electroless solutions to inhibit plating of fuses
등록
:
2008.08.30
⋅ 39회 인용
출처
:
미국특허
, 2004-0157440 A1, 영어 7 쪽
분류
:
특허
자료
:
저자
:
Feffery N. Cleason
1)
기타
:
자료
:
분류 :
티오우레아
⋅
퓨즈억제
⋅
목록
도금 첨가제 원료공급
Innotive 종합카타록
P+station 로고
자료요약
카테고리 :
도금자료기타
| 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.06.01
본 발명은 금속 피처를 형성하는 방법에 관한 것이다. 반도체 장치의 상호간 구조는 제 1에 포징된 금속구조 및 이차 노출된 금속구조를 포함한다.
연관글
연구문헌자료..
박스-벤켄 설계를 이용한 Ni-Co-P 합금 코팅 성능에 대한 첨가제의 효과에 대한 연구
연구문헌자료..
무전해 Ni 석출과 석출욕 안정성에 대한 안정제의 효과
연구문헌자료..
Sn-Ag-Cu 3원계 합금 솔더 전착에 있어서 첨가제의 영향에 관한 연구
도금기술노트..
에텐티오우레아
연구문헌자료..
아연 도금 용액의 제어, 전기화학 기술에 의한 티오우레아 첨가제의 최적 농도 결정
연구문헌자료..
고전류밀도에서 유기첨가제에 의한 구리 전착층의 전기적 특성 변화
연구문헌자료..
무전해 니켈 침지 금공정용 티오우레아 기반 금 Au 추출 및 석출
연구문헌자료..
전기주조된 얇은 니켈-인 NiP 박막의 나노 기계적 성질 및 미세구조에 있어서 Thiourea의 영향에 관한 연구
연구문헌자료..
무전해 도금 공정용 양자 기계적 접근
연구문헌자료..
티오요소 Thiourea에 의한 무전해 니켈 석출의 가속 효과
옥살산염 및 아세트산 음이온이 존재하는 Cr(III) 용액의 크롬 전착에 관한 연구
옥살산염과 아세테이트 음이온의 조합을 기반으로 크롬(III) 도금욕을 평가하기 위해
헐셀
(HullCell) 을 사용하였다. 도금욕은 황산 크롬(III), 옥살산 암모늄, 아세트...
나노구리 수산화-오레인산 복합피막에 의한 구리의 부식방지
바늘 모양의 수산화 구리 나노 구조물을 전기화학적 석출과 산화법으로 제조 하였으며, 나노-구리 수산화물-올레인산 복합 피막은 고온 반응 후 형성 되었다. 주사 전자현미...
Classical PTH / Through Hole Plating with Electroless Copper
In our classical and worldwide established low-, medium, and high build electroless copper process, palladium is used as a catalyst. A consistent palladium depos...
SurTec 650 ChromitAl TCP / 알루미늄 화성처리의 새로운 방법
독일의 SurTec 사가 판매라이선스를 얻은 순 아루미/아루미합금 및 다이캐스트용 화성처리제 "SurTec 650 ChromitAL TCP"의 소개
MEMS 용 니켈-텅스텐 NiW 박막의 특성과 전착
IC 통전을 위한 임시 접점으로 MEMS 에 잠재적으로 적용될 수 있는 이동 가능한 니켈-텅스텐 NiW 미세 구조의 전기도금 및 특성에 대한 기본 조사를 보고하였다. NiW 층은 ...