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인쇄회로 기판상의 금속 배선을 위한 구리도금막 형성 : 무전해 중성공정
Electroless Plated Copper Thin Film for Metallization on Printed Circuit Board : Neutral Process

등록 : 2014.02.23 ⋅ 20회 인용

출처 : 한국재료학회지, 23권 11호 2013년, 한글 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.08
강염기성 조건을 갖는 일반적인 무전해구리도금법을 양극산화 알루미늄 기판상에 적용하기에는 적절하지 않아, 중성 근처 의 pH(6.5~8) 조건을 갖는 무전해 구리도금 용액을 사용하여 양극산화 알루미늄 기판상에 성장시킨 구리박막 특성을 다양한 분석 방법을 통해 연구
  • 구리의 화학연마 Copper Chemical Polishing 구리 33 ml nitric Acid 33 ml Phosphoric ACid 33 ml Acetic Acid 60~70 도, 1~2 분 산화피막은 제거해야 좋다 구리합금 30 ml...
  • 금속과 그 환경의 물리적-화학적 상호작용에 의하여 금속의 열화가 일어나는 현상을 부식이라 한다.
  • 습식처리법에 관한 기초적지식을 알기위하여, 여러종류의 알킬트리케톡시 실란 (ATMS) 에 의한 산화티타늄 TiO2 의 습식처리법에 관한 검토로, TiO2 에 둔수성을 부여하는 ...
  • 루테늄 합금도금에 대한 글이 거의 없었기 때문에 현재 연구에서는 황산염-황산염 전해질을 사용하여 루테늄-코발트 합금의 전착에 대한 데이터를 제공하였다. 루테늄-코발...
  • 크로메이트 부식 진행의 현미경 사진으로, 크로메이트 피막의 내식성을 좌우하는 인자는 여러가지로 생각되지만, 그 중에서도 크로메이트 처리의 최종 공정인 건조 과정...