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IT 정보통신용 반도체 부품의 전기도금 기술 동향
Electroplating technology trend of semiconductor parts for IT information and communication
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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.09.08
인터포저 반도체 부품의 습식구리 전기도금을 30nm 이하의 파인패턴에 적용하여, 기종 스퍼터링을 대체하ㅕ 나노 반도체소자의 품질을 개선하였으며, 최근 IT용 반토체부품개발에 관하여 설명
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차아염소산소다로 암모니아를 분해한 후, 아연을 처리하는 방법으로, 브레이트포인트에 있어서 암모늄은 완전히 분해하고, 분해후, 알루미늄 또는 제2철이온을 15~50 mg/L ...
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크롬산 양극산화법 H2CrO4 = CrO3 + H2O ¨1) 반투명의 외관으로 광학기기·통신기기 등 고온부품에 사용 연질 (20 ㎛ 이하) 피막과 20 ㎛ 이상의 [경질피막]이 있다. 유백색 ...
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아연-니켈 3원 이상의 합금, a) 아연이온을 전착하는 전기도금조, 시스템, 공정 및 그로부터 얻은 물품; b) 니켈이온 및 c) 이온으로 부터 선택된 하나 이상의 이온종.
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SEM 에 의한 조사에서 티오우레아, 덱스트린 및 글리신을 다른 pH 수준과 다양한 조합의 염화욕에서 연강에 아연 전착 표면 특성에 대한 유기 첨가제로 첨가한 효과를 연구...
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무수크롬산 · Chromic acid [크롬산] (CrO3ㆍ삼산화크롬) 참고 [크롬도금] [크로메이트] [에칭] [6가크롬] • [3가크롬]