로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 질산 7건

습식도금 자료분류

자료수 10968 건

추천글

Tag LIST

염화제이구리-질산 CuCl2-HNO3 기반의 화학의 구리 박막 무전해 석출 - 화학 조성과 반응 기구
Electroless Deposition of Cu Thin Films with CuCl2-HNO3 Based Chemistry I. Chemical Formulation and Reaction Mechanisms

등록 : 2014.07.18 ⋅ 15회 인용

출처 : Electrochemical Society, 148권 5호 2001년, 영어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
⋅ ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.02.11
HF-NH4F 버퍼용액에서 CuCl2-HNO3 화학을 사용하는 산성기반 무전해 구리 Cu 도금 시스템을 설명하였다. 질산의 도움으로 Cu 시드 레이어를 삽입하지 않고도 SiO2 / Ta / TaN 소재에 Cu를 전착할수 있다. 도금속도는 용액에서 [HNO3]가 증가함에 따라 감소하는 것으로 나타났다. 시스템에서 [NO3-], [F-], [Cl-], [NH4-], Si...

연관글

  1. 연구문헌자료.. 무전해 Ni-P 합금 도금액에 있어서 나노 SiO2의 분산
  2. 연구문헌자료.. 나노 복합 전기도금에 있어서 SiO2의 응용
  3. 연구문헌자료.. 아연-니켈 ZnNi 합금 피막 전착의 내식성에 대한 나노-SiO2의 효과
  4. 연구문헌자료.. 초발수 SiO2/FEVE 복합피막의 준비
  5. 연구문헌자료.. 알루미늄의 화학연마 방법
  6. 도금기술노트.. 왕수
  7. 연구문헌자료.. 환경부하가 낮은 유기산 용액에 의한 SUS304 강전해 연마면의 부동태화 처리
  8. 연구문헌자료.. 티오펜을 사용한 질산욕에 있어서 구리의 부식방지 및 그 유도체
  9. 연구문헌자료.. 염화제이구리-질산 CuCl2-HNO3 기반의 화학 구리 박막의 무전해 석출 - 동역학과 미세 구조
  10. 도금기술노트.. 질산