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검색글 Itsuaki MATSUDA 1건
폴리이미드 수지상의 직접 구리성막의 검토
Direct electroless Cu Plating on Polyimide film

등록 2009.07.21 ⋅ 39회 인용

출처 표면기술, 55권 12호 2004년, 일어 2 쪽

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.11.04
수지상에 SAM 을 촉매부여밀착층으로 이용하여 배선형성기술로ㅡ 수지상의 직접 무전해구리도금형성 가능성을 검토
  • 발명은 금속크롬의 전착개선에 관한 것이다. 주요 목적은 금속크롬이 이전보다 더 경제적으로 금속 표면에 전해 도금될수 있는 방법을 제공하는 것이다.
  • 계산용기기를 중심으로한 전자파방해에 대한 FCC 및 CISPR의 규제치 및 이들의 기기에서 발생하는 방해파의 측정법 및 전자 감소재의 시험에 관하여 설명
  • 3가크롬 주체의 아연도금 부동태피막을 설명했다. 실험에는 SPCC 강판을 사용하여 드라이버 및 두께 8 μm의 아연도금을 실시했다. 황산크롬칼륨을 3가크롬 원으로 각종 시약...
  • 중붕소산소다 ^ Sodium Tetraborohydrate 수소화붕소소다 CAS No 1690-66-2 NaBH4 = 37.83 g/㏖ 물과 접촉시 자연발화되는 가연성으로 인화성 가스를 발생한다. 도금공업에...
  • bss
    BSS Sodium Benzenesulfinate cas 873-55-2 C6H5NaO2S = 164.15 g/㏖ 백색결정 분말로 물에 용해 니켈 또는 니켈철 합금도금의 침투력 개선제로 사카린 및 광택제와 함께사...