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반도체 공정에서 구리기둥 주석범프의 전해도금 형성과 특성
Formation and Properties of Electroplating Copper Pillar Tin Bump
자료 :
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- 분류 : 범프도금 ⋅
자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.04
구리기둥의 산화방지 대안으로 주석측벽 산화방지 보호막 구조의 범프제작, 제안된 구조의 도금기법을 비롯한 제작공정과 방법의 소개, 기존의 CPB-구리기둥 범프와 주석측벽 보호막 구조의 개선된 CPTB-구리기둥 주석범프의 전기적 특성에 대하여 비교, 분석 및 고찰
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솔더 기술적으로 기판의 용융 온도보다 훨씬 낮고 일반적으로 450 ℃ 미만인 세 번째 "충전제" 금속을 사용하여 두개의 기본재료를 결합하는 것으로 정의된다. 납땜합금은 연...
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아노다이징후 수세를 깨끗이 하고 염료탱크 30분 침지하는데요 수작업시는 얼룩이 안생기는데 크레인 작업시는 염료침지후 수세과정을 거치고 나면 아래 방향으로 물 흐르는...
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PSA 아래와 같이 서로 다른 PSA 가 있다. Pyridine Sulfonic Acid CAS : 636 - 73 - 7 C5 H5 NO3 S = 159.16 형상 : 백색분말 98 % 용해성 : 물에 2 % 용해 용도 : [귀금속...
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저급 덤프침출 용액에서 구리를 선택적으로 추출한다음 구리를 산성용액으로 스트리핑하여 전기원 구리음극을 생산할수 있는 개념은 1960년대 초에 General Mills의 Mineral...
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