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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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크롬도금의 헐셀시험에 있어서 전위 및 전류분포의 측정
Measurement of potential and current distributions in HullCell test of chromium plating bath

등록 : 2008.08.05 ⋅ 45회 인용

출처 : 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2016.02.03
헐셀판 표면의 전위와 전류밀도를 실측하고, 표면형태와의 관계에 관한 조사
  • To save gold is an essential demand in electronics. If the parts (e.g. sockets) are bulk goods and the area to be goldplated is on the inside of such hollow bodi...
  • 시안화 은도금액 분석 ^ Silver Cyanide Plating bath Analysis 은 도금액 5 ㎖ 를 300 ㎖ 비커에 취하고 황산 20 ㎖, 질산 5 ㎖ 를 주의깊게 가한다 (유독 CN 가스가 발생...
  • 종래의 톨루이딘 아닐린법을 개량하여, 크롬도금액중의 염화물 또는 기타 용액중의 미량 염화물을 간이 정량법으로 분석
  • 황산주석(ii) 의 산성용액에 주석의 석출에 대한 포름알데하이드, 프로피온 알데하이드 및 벤즈알데하이드의 첨가 효과가 조사되었다. 음극분극 및 a.c. 임피던스에 대한 이...
  • 인쇄회로 기판에 납땜 가능하고 접착가능한 층을 형성할 때의 문제는 추가처리 (전기 부품 장착) 전에 소재를 보관한후 표면이 변색되어 납땜성과 접착성에 영향을 미친다는...