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크롬도금의 헐셀시험에 있어서 전위 및 전류분포의 측정
Measurement of potential and current distributions in HullCell test of chromium plating bath

등록 2008.08.05 ⋅ 71회 인용

출처 금속표면기술, 30권 1호 1979년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2016.02.03
헐셀판 표면의 전위와 전류밀도를 실측하고, 표면형태와의 관계에 관한 조사

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