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정전위 펄스전에에 의한 니켈박막의 제작
Preparation of Thin Nickel Films by Means of Potentiostatic Pulse Electrolysis

등록 2015.03.23 ⋅ 34회 인용

출처 표면기술, 45권 12호 1994년, 일어 2 쪽

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기타

定電位パルス電解によるニッケル薄膜の作製

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.12.27
50 nm 두께의 부드럽고 얇은 니켈 피막을 준비하기 위해 전위차 펄스전기 분해를 사용하는 방법에 대해 설명한다. 그런 다음 펄스조건과 표면형태 사이의 관계를 연구했다.
  • 금-주석 AuSn 합금의 금 Au 의 융점이 1063 ℃ 인 것에 비해 주석 Sn 을 함유하여 융점의 급격한 저하가 인정되어 Au -20 wt % Sn 에서 공정점을 보여주고,이 때의 용융점이 ...
  • 이형처리 ㆍ Release agent [전주도금] 등의 모형을 모재로 부터 박리를 쉽게 하기 위한 [화성처리]로 모재의 재질에 따라 다르다. 구리ㆍ황동 등 이산화셀렌 0.5 % 수용액 ...
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  • 구리(ii) 이온을 산화제로 할때 질화티타늄 TiN 또는 질화탄탈룸 TaN 의 표면일부가 용해되어 만들어진 전자에 따라 구리가 환원석출 되는 치환반응을 구성하여, 이것이 베...
  • 시안을 사용함이 없이 광택성이 높은 도금을 가능케 하는 아연 도금욕에 관한 것으로, 공해방지를 위한 막대한 비용의 지출이 없으며, 도금층의 치밀성 및 전착량이 크고 광...