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검색글 Takashi SHIRAKASHI 7건
복합 무전해 도금법에 의한 신규 자성저립의 제작과 그 포스트 CMP 기술에의 응용
Development of New Magnetic Abrasives by using Electroless Composite Coatings and Its Application to the post CMP Technology

등록 2015.03.24 ⋅ 17회 인용

출처 표면기술, 56권 6호 2007년, 일어 5 쪽

분류 연구

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저자

기타

複合無電解めっき法による新規磁性砥粒の作製とそのポストCMP技術への応用

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자료요약
카테고리 : 응용도금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.16
CMP 를 대체하는 새로운 기술로서 자기연마법에 착안하여, 이를 이용한 새로운 자성연마의 개발을 목적으로한 실험
  • 황산 3가크롬 도금의 새 기술과 도금용액의 성능과 확립을 시험하였다. 도금액은 안정하며, 도금속도는 0.055~0.075 μm/min 로 빠르며 피막은 우수하였다. 염수분무시험...
  • 황산염 욕에서 로듐을 전착할때 일반적으로 사용되는 고응력 도금이 생성된다. 마스킹 페인트에 포함된 유기화합물이 이러한 스트레스에 미치는 영향에 대한 조사를 설명하...
  • 비시안화물 금속 착화물, 티오황산염, 아황산염 및 하나 이상의 아미노산을 포함하는 무전해은 Ag 또는 금 Au 도금액 이다. 아미노산이 포함된 이러한 무전해 도금액은 아미...
  • 지시약의 조제 Preparation of indicators 물질이 어떤 특성 (산성ㆍ중성ㆍ염기성) 을 지니는가를 구분해주는 물질을 [지시약]이라 한다. 산ㆍ알칼리 지시약 Alizarin S ㏗ ...
  • 새로운 표면개질법으로 오존 처리에관하여 검토하였고, 호모폴리마를 시작으로 각종범용 그레이드의 폴리프로필렌에 대하여 저온니켈도금의 적용성을 검토