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산성 구리 전기도금 시스템의 임피던스에 대한 연구
Studies on Impedance of Acid copper Electroplating System

등록 : 2015.04.03 ⋅ 26회 인용

출처 : Electrochemistry, 4권 2호 1998년, 중국어 7 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.07.11
기본용액 (0.3 mol/L CuSO4 + 1.94 mol/L H2SO4) 의 임피던스 특성과 60 mg/L Cl-, 300 mg/L OP21, 30 mg/L PEG, 10 mg/L 2- 티아졸리닐 디티오 프로판 설페이트 (자체합성 첨가제) 를 등가회로 측면에서 조사하고 해석하였다. 결과는 염소 Cl- 이온이 음극분극을 증가시킬수 있음을 나타낸다. 2단계 반응기구는 구리 Cu2+ ...

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