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구연산을 첨가한 고속 경질크롬 도금 방법
High Speed Chromium plating method with Citric acid

등록 : 2008.08.22 ⋅ 41회 인용

출처 : 일본특허, 평1-149986, 일본어 2 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.11.18
무수크롬산, 3가크롬 및 질산으로 구성된 크롬도금욕에 구연산을 첨가한후 가열처리 하는 것을 특징으로 하는 고속도 크롬도금 방법
  • 본 발명은 적어도 하나의 수용성 금화합물, 금 Au 완성제, 수용성을 포함하는 비시안화물 유형 금-주석 합금도금욕을 제공한다. 주석화합물 및 (iv) 양이온성 고분자 계면활...
  • 루셀 · Lu Cell Lu Cell 은 1991년경 "Po-Yen Lu" 가 몇가지 회전시험조를 실린더형과 코니컬 형태로 디자인된 실험조를 만들었다. 전형적인 [헐셀]조의 다양한 장점의 물질...
  • 옥사이드 ㆍ Oxide [인쇄회로] (PCB) 보드의 내부 구리 표면을 산화하여 거칠게 만들고 내층 구리박과의 밀착력을 좋게 하는 역할을 한다. 2Cu + ClO2 → Cu2O (산화2구리) +...
  • 무전해니켈도금은 1955년에 처음으로 저온에서의 무전해 도금공정이 시작되었다. 이 과정은 기존과 동일한 전해와 환원제를 기반으로 하였다.
  • 아라비아고무 Arabic Gum 과 염소 Cl- 이온을 개별적 또는 복합적으로 첨가하여 동박 제조시 초기 핵생성과 성장에 미치는 영향을 조사