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돌출부를 지닌 전극의 전기도금 시스템에 대한 이론적 이차 전류분포 해석
Theoretical Anlysis of Secondary Current Distributions for Electrode with a Projection Part in Electroplating System

등록 2017.10.17 ⋅ 49회 인용

출처 전기화학, 12권 4호 2009년, 한글 7 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.11.16
일차적으로 물질전달의 지배를 받지 않는다는 가정하에서 2차 분포를 적용하여 돌출부위에 대한 전기도금 반응속도의 분포를 다양한 기하학적 형상에 대하여 고찰하여 적합한 도금분포를 지닐 수 있는 공정 조건들을 제시
  • 본 발명은 은 및 주석 합금의 전기도금조 및 은 및 주석 합금의 전기도금 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 은 및 주석 합금의 전기도금조 및 전기도금조가 ...
  • 염산 히드라진을 환원제로한 붕사첨가 니켈-코발트 Ni-Co 합금도금액을 만들고, 제작된 니켈-코발트-붕소 Ni-Co-B 합금피막의 조성, 석출속도, 편활성, 균일전착성등에 ...
  • 이미다졸과 벤즈이미다졸, 철이온이 포함된 수용액에 구리와 구리합금의 표면처리 첨가제에 관한 연구
  • 서로 다른 pH를 갖는 글리신 함유 욕에서 니켈 전기도금의 특성은 아미노산 농도, 온도, 전위 스캔 속도 및 디스크 전극의 회전 속도와 같은 요소를 히험하였다. 이는 도금...
  • 아연에 도금된 크로메이트 필름의 구조, 원자력 현미경은 크로메이트 필름의 3 차원에 대한 통찰력을 얻고 두꺼운 크로메이트 코팅에서 보이는 균열의 크기와 깊이를 연구하...