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동(銅)의 도금방법

등록 : 2008.08.23 ⋅ 41회 인용

출처 : 한국특허, 2003-0383485, 한글 5 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.06.04
본 발명은 다층 프린트배선판 또는 웨이퍼의 구리 미세배선의 비어홀이나 홈부 등의 내부를 전해구리도금에 의해 석출동으로 매설하는 경우에 사용하는 구리도금액의 첨가제를 특히 브라이트너 성분을 피도금물에 미리 흡착시키고, 브라이트너를 포함하지 않은 구리도금욕중에서 전해도금하는 것
  • CT-3 is a water type anti-tarnish agent, which does not contain any organic solvent. This agent is not only used as a tarnish inhibitor for silver, but also a se...
  • 레늄(Re)은 고성능 엔지니어링 재료로 큰 인지도를 가지고 있으나 부서지기 쉬운 금속으로 주로 군사, 항공기 및 항공 우주 응용 분야와 석유 화학 산업의 촉매에 사용된다....
  • 금속전착 ^ Electrodeposition of Metal 전기적으로 음극에 붙는 것으로 환원되어 석출 됨. M+→ M (cathode) 양극 현상 : M→M+ (anode) 참고 금속전착
  • 도금폐수 내의 중금속에 대한 천연물질인 인회석의 제거 효율에 대한 실내실험을 평가하는 것이다. 4가지 다른 입자 2 mm (10번) 통과 - 0.84 mm (20번) 잔류분, 0.42 mm (4...
  • 4개의 아연-철-니켈 Zn-Fe-Ni 피막을 알루미늄과 강판에 전위차 전착조건에서 도금하였다. 그들의 조성, 부식특성 및 구조는 전해질의 FeSO4 농도의 함수로 평가되었다. 피...