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구리 전기도금에 있어서 상향식 충진에 3 -S-이소티우로니움 프로필 설폰산의 효과
Effect of 3-S-isothiuronium propyl sulfonate on bottom-up filling in copper electroplating

등록 : 2017.12.04 ⋅ 30회 인용

출처 : Comp. Model. Tech., 19권 2015년, 영어 3 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2022.08.01
구리전착에 의한 마이크로홀 충진에 대한 3-S-이소티우로늄 프로필설폰산 (UPS) 의 효과를 광학현미경을 사용한 단면이미지로 조사하였다. UPS 를 추가하여 전기도금욕의 버텀업필링을 수행하였다. 전기화학적 연구에 따르면 UPS 를 추가하면 음극 분극이 감소하였다. 더욱이, X-선회절 분석은 UPS 를 추가함에 따라 도...
  • RALU PLATE OPX ^ (O-Ethyldithiocarbonato)-S-(3-sulfopropyl)-ester, Kaliumsalt CAS : 93841-14-6 C6H11KO4S3 = 282.42 ㏖ 주용도 [황산구리도금]ㆍ[귀금속도금]용 광택...
  • 합금성분으로서는 보통 도금할 수 있는 금속원소는 물론이고 탄소 인과 같은 비금속원소도 합금원소로 할 수 있을 뿐만 아니라 알루미나 카보던덤 규사 이유황몰리브덴과 같...
  • 광택 니켈을 2시간~3시간 정도 하는데. 노듈이 발생 하는 이유가 뭘까요? 노듈에 크기 수량은 대중 없습니다. 광택제량으로 조금은 조절이 되어 보이기는 하는것 같은데... ...
  • 무전해도금(Electroless Plating) 공정에 사용되고 있는 팔라듐촉매 용액의 담지 특성 및 효율이 향상될 수 있는 팔라듐 촉매 용액의 제조방법, 보다 상세하게는 팔...
  • 부틴디올 butyn-2-diol 의 몇 가지 화학분석 방법이 이미 보급 되었다. 그러나 저자는 BID 를 브라이트너로 포함하는 니켈도금액에 대한 방법의 적용 가능성을 연구하였다. ...