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도금조건에 따른 무전해 니켈도금 속도 및 피막특성 연구
A study on the plating rate and the deposit characterisics of the electroless Nickel Plating according to the plating conditions

등록 : 2017.12.14 ⋅ 12회 인용

출처 : 인하대학교, 2010년 8월, 한글 194 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.11.08
무전해 니켈도금액의 조성변화와 도금조건 변화에 따른 도금속도 및 피막특성에 대하여 연구한결과로, 니켈염 및 차아인산소다의 농도증가, 도금액 pH 및 온도상승에 따라 도금속도는 증가하였으며, 젖산의 농도 증가에 따라 도금속도는 감속하였다.
  • 알루미늄 표면은 안정된 산화피막이 생성되는 것은 주지의 사실이며, 이 성질이 알루미늄의 내식성에 큰 기여를 하고 있지만, 상기 부식시험 및 표면처리 제품의 품질의...
  • - Bright chrome deposit - Superior throw - Excellent efficiency - No low current density etching - Can be used with indexing, non-indexing and/or duplex nickel s...
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  • The Technic High Speed Nickel Sulfamate FFP process is designed for high speed, high current density applications to produce a low stress, semi-bright, ductile n...