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무전해 Ni 스트라이크 도금액의 착화제 영향
Effect of Complexing Agent on Electroless Nickel Strike

등록 2018.01.27 ⋅ 112회 인용

출처 과학기술정보연구원, na, 한글 7 쪽

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2023.05.31
팔라듐 Pd 촉매부여 처리 대신으로 니켈 Ni 스트라이크 도금액의 구성성분이 무전해 Ni 도금액과 유사하기 때문에 Ni 도금액의 착화제가 구리 Cu 위에 석출하는 Ni 결정상태에 영향을 준다고 생각된다. 그래서 Kato 등은 무전해 박막 금/니켈 Au/Ni 도금피막의 납땜접합 특성에 미치는 Ni 스트라이크도금액의 착화제 선...
  • 시안화 아연도금액 분석 ^ Zinc Cyanide Plating Bath Analysis 아연 도금액 1 ㎖ 를 정확히 취하고 물 100 ㎖ 를 가한다. NH4Cl 1~2 ㎖ 가하고, Conc. NH4OH 약 5 ㎖ 가한...
  • 구리이온, 착화제, 환원제, pH조절제, 종래에 사용되고있는 폴리옥시에틸렌계 계면활성제 및 적어도 Si 또는 Ge 를 포함하는 무기화합물 또는 양이온 계면활성제를 포함하는...
  • 인산 크로메이트 ^ Phosphate Chromate 인산크로메이트 처리는, 각종 소재의 도장 전처리, 6가크롬 용출을 허용하지 않는 소재의 전처리 등에 이용되며, 알루미늄에 많이 이...
  • 전착공정에 적용되는 전기화학셀에 대한 다단계 연구를 하였다. 첫 번째 부분은 구리 오염제거에 사용되는 배치 반응기의 거시적 모델에 관한 것이다. 두 번째 부분은 회전...
  • 코발트 Co 전석막의 우선배향성에 관하여, 전해조건, 욕조성의 변화를 검토하고, Co 해석의 분극곡선을 측정하여 우선배향과의 관련을 고찰