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HDI 응용에서 차세대 전해구리 도금공정
Next Generation Electrolytic Copper Plating Process for HDI Applications

등록 : 2018.02.21 ⋅ 18회 인용

출처 : IMPACT, Oct 2016, 영어 4 쪽

분류 : 발표

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

agarajan Jayaraju1) Leon Barstad2) Don Cleary3) Zukhra Niazimbetova4) Tony Liao5) Caroline Grand6) Joanna Dziewiszek7) Maria Rzeznik8) Marc Lin9) Dennis Yee10)

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자료요약
카테고리 : | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.21
여러 치수의 마이크로비아 충진 구리ㅊ전기도금에 영향을 미치는 요인을 설명 하였다. 이 도금 제품은 무전해구리도금 (0.5~1.5 μm) 기판에 사용하기 위한 원스텝 공정으로 개발되었다. 새로운 전기도금 제품은 낮은 도금표면 구리두께에서 우수한 비아충진 및 스루홀 침투력을 보여주었다.
  • 티오프라빈· ThioFlavine T ^ 4-(3,6-dimethyl-1,3-benzothiazol-3-ium-2-yl)-N,N-dimethylaniline chloride avin T / ThiofL / C.I. 49005 / BASIC YELLOW 1 CAS : 2390-54...
  • 무전해 도금 폐수에 포함된 인산 류, 유기산 류 등을 효율적으로 제거할수 있고, 게다가 특정 성분을 선택적으로 제거할수 있는 새 무전해도금액의 처리방법을 제공한다. 차...
  • PSA, ENSA, EN, EN-10의 농도별 전착특성에 미치는 인자들을 구하여 품질외관특성을 설명하는 기본적 토대를 구축하고자함
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  • 화학적 환원 도금 방법에 있어서, 도금욕중의 도금 피막시 촉매제의 소모량에 따라 이를 보충하여 보급하게 되는 도금액의 보급을 자동으로 조절할 수 있도록 한 무전해 도...