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마이크로비아 충진의 구리 전기도금 기술
Copper Electroplating Technology for Microvia Filling

등록 2021.11.29 ⋅ 49회 인용

출처 HKPCA Journal, 14호, 영어 13 쪽

분류 해설

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저자

Mark Lefebvre1) George Allardyce2) Masaru Seit3) Hideki Tsuchida4) Masaru Kusaka5) Shinjiro Hayashi6)

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.08
더 빠르고 더 작고 고성능인 통신 및 전자 장치에 대한 요구에 따라 마이크로비아를 통합하는 빌드업 기술이 실행 가능한 다층 인쇄 회로 제조 기술로 부상했다. 증가된 배선 밀도, 감소된 라인 폭, 더 작은 스루홀 및 마이크로비아는 모두 이러한 고밀도 상호 연결(HDI) 패키지의 속성이다. 마이크로비아를 전도성 물질...
  • 영어 15 페이지 / INCO Consumption / Applications / Technical
  • 최근 후막 (>~100 ㎛) 의 코팅이 용이하고 일반 UV (자외선 : Ultra Violet) 광원에 대한 감도가 좋아 높은 종횡비 (Aspect Ratio : 특정 구조물의 가로 폭과 세로 높이의 ...
  • AESS ^ Aliphatic amine ethoxylated sulfonate 적갈색 점성의 액상, 물에 용해 순도 : 50 % 강력한 [구리도금광택제|구리도금 광택제] 및 레베링제로 SPㆍMㆍGISSㆍNㆍP 등...
  • P 함량이 17at % 이상인 무전해 NiP 피막은 비정질상태로 인해 박막저항기로 사용되는 것으로 잘 알려져 있다. 그러나 약 275 ℃ 에서 결정 상태가 비정질에서 결정으로 변하...
  • 다공성 크롬도금 ^ Porous Chromium Plating 도금 전 소지표면을 거칠게하여 크롬도금 하던가, 표면을 부식하여 다공성으로하고, 기름 함유성을 증대시켜 주기위한 크롬도금...