도금 첨가제 제조 원료약품 - 헥사클로로 이리듐(iv) 용액에서의 이리듐의 전석

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헥사클로로 이리듐(iv) 용액에서의 이리듐의 전석

Electrodeposition of Iridium from Hexachroroiridate (IV) solution

등록 : 2008.09.04 ⋅ 40회 인용

출처 : 표면기술, 40권 1호 1989년, 일어 2 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Noboru KUBOTA¹⁾ Shun-ichi YOSHIMURA²⁾ Eiichi SATO³⁾

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자료요약

카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.23

헥사클로로 이리듐 및 황산을 함유한 용액에서 이리듐도금에 관한 기본적인 전류-전위 곡선, 전해조건, 전류효율, 표면형태등을 검토하였다.

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