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검색글 Noboru KUBOTA 14건
헥사클로로 이리듐(iv) 용액에서의 이리듐의 전석
Electrodeposition of Iridium from Hexachroroiridate (IV) solution

등록 2008.09.04 ⋅ 68회 인용

출처 표면기술, 40권 1호 1989년, 일어 2 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 전기도금기타 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.23
헥사클로로 이리듐 및 황산을 함유한 용액에서 이리듐도금에 관한 기본적인 전류-전위 곡선, 전해조건, 전류효율, 표면형태등을 검토하였다.
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  • 광택 피막의 도금을 위한 개선된 구리도금욕조, 특히 일반 아미드의 무기산 및 구리염의 표준 전해 수용액에 추가하는 인쇄회로의 도체 경로 강화에 적합 하다. 화...
  • 전형적인 알루미늄 양극산화 기술을 설명하였으며, 각각의 양극산화 기술의 특성을 분석하였다. 전처리 공정, 양극산화 공정, 산화막의 실링처리란 3가지 측면에서 항공...
  • Ni-MLCC 로 부터 최적조건의 니켈 Ni 침출용액을 제조한 후 불순물이 혼합된 Ni 혼합 용액으로부터 Ni 를 효과적으로 분리 회수하기 위하여 D2EHPA, alamin336 및 LIX84 의 ...
  • 이중도금 · Double Layer Plating 도금에서 발생되는 불량의 하나로 도금층간의 소재의 부동태 또는 전기 단락으로 인한 층간 밀착불량 도금을 말한다. 참고 [밀착불량] [바...