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Au-Ni-SiO2 분산도금피막의 생성
The formation of AU-Ni-SiO2 dispersion coatings

등록 2008.09.04 ⋅ 84회 인용

출처 금속표면기술, 37권 1호 1986년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 합금/복합 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.02.17
금도금피막의 개량이라는 관점에서, 공업적으로 많이 이용되는 산성금도금액을 이용하여, 분산입자인 SiO2를 사용하여 Au-SiO2 분산도금피막의 생성조건과 피막특성에 관하여 검토
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  • 양극산화 피막의 미세공중에 자성금속을 전해석출하여, 수직 이방성을 나타내는 자기박막을 형성하였고, 이 박막은 프린터, 디스플레이, 고밀도 자기 메모리 등의 ...
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  • 메탄설폰산 및 알칸올설폰산과 같은 새로운 주석 도금욕을 광범위하게 시험하였다. 생산성이 높은 주석 도금 공정을 개발하기 위해 페놀설폰산 기반 욕에 의한 고전류 ...