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검색글 Hideki HAGI 16건
일렉트로닉스 분야에서의 황산구리 도금기술
Acid copper plating technology for electronics (electro Device) field

등록 2008.09.04 ⋅ 45회 인용

출처 표면기술, 52권 1호 2001년, 일어 2 쪽

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.05.30
일렉트로닉스분야에 사용되는 도금기술중, 최근의 황산구리 도금기술에 관한 소개
  • 아연도금을 주로 하고 있습니다. 그에 따라 J사의 Hull Cell 시편100EA를 5만원 정도에 구입하여 사용중인데, 대량 실험을 하다보니 가격적인 부담이 있습니다. 혹시 따로 ...
  • 아연 및 카드뮴 금속상의 흑색 크롬산염 피막의 특성은 피막을 티오황산나트륨, 티오글리콜산나트륨 또는 티오요소 수용액으로 처리하여 개선 한다. 흑색 크로메이트 피막처...
  • 이 문서는 도금의 물리적 및 화학적 특성, 현재 위치 및 도큼평가에 사용할 수있는 시험방법에 대한 개요를 제공하였다. 차아인산나트륨에 의한 니켈환원에 으로 생성된 것...
  • 단일 첨가제인 폴리에틸렌 글리콜 (PEG) 또는 3-메르캅토-2프로판설폰산 (MPSA) 및 이들의 혼합물의 존재하에 염화나트륨을 포함하거나 포함하지 않는 산성 [[황산...
  • 근래 청정생산기술개념이 도금기술 분야에도 적용되고 있으며 향후 폐수 무방류 공정기술개발, 환경친화적 도금작업환경개선 기술개발, 첨단도금 기술개발, 전문연구 인력 ...