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구리의 도금과 도금욕
Electrodepostion of copper and bath therefor

등록 2008.09.17 ⋅ 30회 인용

출처 미국특허, 1941-2250556, 영어 3 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.10.10
발명은 구리의 전착 및 그에 사용하기 위한 전해액 또는 욕에 관한 것이며 그에 대한 개선을 제공한다. 철, 철강, 아연, 지크 합금, 납, 납 합금, 알루미늄 등을 포함한 광범위한 금속 및 합금에 조밀하고 밀착력이 있는 구리피막을 얻을수 있다.
  • 현재 문제시되는 경질크롬 도금의 수소취성, 비균일 전착성을 해결하고, 특히 HRC72 라는 초경질 크롬도금 처리방법에 관한 보고
  • 납땜성을 유지하기 위한 혁신적인 프로세스에 대해 설명 하였다. 이 새로운 기술의 핵심은 구리와의 화학적 변위 반응에 의해 용융 가능한 주석/납 도금을 하는 침지식 비전...
  • 산성(암모늄) 아연도금액 분석 ^ Acid Zinc (Ammonium) Plating Bath Analysis 금속아연 (Zn) 도금액 1 ㎖ 를 취한후 순수 약 100 ㎖ 를 가한다 염화암모늄 (NH4Cl) 완충액 ...
  • 시스템 제어 가능성은 기능성박막 제조기술에서 중요한 요소다. 무전해도금 방식은 상대적으로 생산성이 높은 박막제조 방식으로 도체나 절연체나 상관없이 성막할수 있...
  • 양이온 계면활성제 ^ Cationics Surfactant 계면활성부분이 물에 용해시 친수기가 양(+) 의 전하를 띠는 계면활성제, 세제로 사용되는 대부분은 음이온 계면활성제 이며 양...