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전기구리 도금에 의한 ULSI 배선 형성
Formation of intergrated circuit interconnection using copper electroplating

등록 : 2009.04.16 ⋅ 54회 인용

출처 : 일렉트로닉스실장, 4권 3호 2001년, 일본어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.07.29
구리도금욕중의 첨가제를 억제함에 따라 써브미크론 오다의 ULSI 배선형성의 가능성에 관하여 검토

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