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고전류밀도에 있어서 니켈의 석출 (1)
na

등록 : 2009.12.31 ⋅ 53회 인용

출처 : 금속표면기술, 16권 6호 1965년, 일어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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기타 :

高電流密度におけるニッケルの析出 (1)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.02.17
1964 년에 General Motors 에서 범퍼에 반광택니켈도금 20 μm, 니켈스트라이크도금 0.7~2.5 μm 광택니켈도금 5 μm 의 삼중니켈도금을 140 A/dm2 이상의 전류밀도에서 75 s 로 도금하였다. 고속의 자동연속 얇은 강판 주석도금은 2차 세계대전 이전에 주목되었었다.