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고속 저시안 은 Ag 도금욕의 석출막 특성
Properties of silver deposits plated from high-speed low-cyanide naths

등록 2010.01.21 ⋅ 80회 인용

출처 표면기술, 44권 3호 1993년, 일어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.01
리드프레임의 고속 부분 은 Ag 도금은 메카니칼법을 이용한 제트도금법에 의해 이루어지고 있으며, 그 도금액으로 저시안 은 Ag 도금욕이 개발 실용화되고 있다. 이 저시안 은도금욕은 일반적으로 광택제로 셀레늄 시안산 이온이 첨가되어 있으며,이 효과에 의해 고전류 밀도 영역까지 실용성이 높은 광택 은도금을 얻을수 ...
  • 소재를 무전해도금 조성물에 침지하여 금속합금을 무전해도금하는 공정. 상기 무전해도금 조성물은 용매, 금속화합물, 무전해 환원제, 착화제/킬레이트제, 코발트 이온을 포...
  • 8~10%의 중인 무전해 니켈도금액을 개발하여 이 무전해 도금욕 상에서 도금욕에 함유된 환원제와 니켈 금속욤 등의 영향에 따른 도금속도와 도금표면의 특성에 관해 연구
  • 3개의타입 후처리제 타입 1 : 표면흡착형 타입 2 : 국소부동태형 타입 3 : 금속부동태형
  • 집적 회로 응용을 위한 금속화 방법으로서 무전해 구리 도금 공정을 검토하였다. 화학 용액 및 반응 열역학뿐만 아니라 최소 치수가 0.1~1.0 cm 사이인 평평한 표면과 패턴...
  • 젤라틴 헵톤 글리신 글리실글리신 등의 단백질 및 m-크레졸 b-나프톨등의 벤젠고리를 가진 유기물을 첨가제로 선정하여, 전기화학적 방법 및 광학현미경, 주사형 전자현미경...