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고속 저시안 은 Ag 도금욕의 석출막 특성
Properties of silver deposits plated from high-speed low-cyanide naths

등록 2010.01.21 ⋅ 87회 인용

출처 표면기술, 44권 3호 1993년, 일어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2021.01.01
리드프레임의 고속 부분 은 Ag 도금은 메카니칼법을 이용한 제트도금법에 의해 이루어지고 있으며, 그 도금액으로 저시안 은 Ag 도금욕이 개발 실용화되고 있다. 이 저시안 은도금욕은 일반적으로 광택제로 셀레늄 시안산 이온이 첨가되어 있으며,이 효과에 의해 고전류 밀도 영역까지 실용성이 높은 광택 은도금을 얻을수 ...