로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 티오우레아 53건
전자부품의 침지 주석욕의 연구
Investigation of immersion Tin bath to the electronics Applications

등록 : 2011.07.28 ⋅ 27회 인용

출처 : Inter. PhD Workshop, October 2009, 영어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.25
실험 결과는 주석 Sn 도금속도에 대한 TU 및 염산 HCl 농도 및 욕온도의 지배적인 영향을 확인하였다. 만족스럽지 않은 구리 Cu(i) 착화 및 Cu 부동태 효과로 인해 낮은 TU 및 HCl 농도에서 공정이 중지된다. 고농도의 HCl 및 TU 공정은 Sn 용해 및 TU 분해의 결과로 중단된다. 도금된 Sn의 최종 두께(최대 2mm) 는 Cu 표면...

연관글

  1. 연구문헌자료.. 무전해 Ni 석출과 석출욕 안정성에 대한 안정제의 효과
  2. 연구문헌자료.. Sn-Ag-Cu 3원계 합금 솔더 전착에 있어서 첨가제의 영향에 관한 연구
  3. 도금기술노트.. 에텐티오우레아
  4. 연구문헌자료.. 아연 도금 용액의 제어, 전기화학 기술에 의한 티오우레아 첨가제의 최적 농도 결정
  5. 연구문헌자료.. 고전류밀도에서 유기첨가제에 의한 구리 전착층의 전기적 특성 변화
  6. 연구문헌자료.. 무전해 니켈 침지 금공정용 티오우레아 기반 금 Au 추출 및 석출
  7. 연구문헌자료.. 전기주조된 얇은 니켈-인 NiP 박막의 나노 기계적 성질 및 미세구조에 있어서 Thiourea의 영향에 관한 연구
  8. 연구문헌자료.. 무전해 도금 공정용 양자 기계적 접근
  9. 연구문헌자료.. 티오요소 Thiourea에 의한 무전해 니켈 석출의 가속 효과
  10. 연구문헌자료.. 메탄설폰산 전해질에 대한 장식용 산성 구리도금욕 기반에 있어서 티오우레아 농도의 최적화
  • 차아인산염, 아인산염, 유기산염등, 무전해니켈 도금폐액중에 존재하는 환원성 물질을 차아염소산염으로 산화 또는 황산염, 아인산염 및 산화처리로 생성된 인산염등을 칼슘...
  • 니켈아세테이트 기반의 실링, 규산염 기반의 실링 및 이들을 조합한 실링의 경우 게시된 실링기술을 간략하게 소개하고 마지막으로 상호관계를 설명하여 일반적인 이해를 제...
  • 팔라듐은 원자번호 46, 원자량 106.42, 1803년 영국의 Wollaston 이 발견하였고, 팔라듐의 명칭은 발견자 Pallas에서 유레되었다.
  • 최근 몇년동안 철강에 아연도금 피막을 생산하는데 많은 발전이 있었고 피막의 내식성을 향상시키기 위한 노력이 수시로 이루어졌다. 아연-철 합금이 그러한 개발중의 ...
  • 도금 약품 · Plating Chemicals 도금산업에 사용되는 화학약품 류는 크게 일반약품과 광택제ㆍ첨가제 등으로 나누어 진다. 일반약품은 전해질과 전후처리ㆍ[크로메이트] 등...