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검색글 Hiroaki Sumitani 1건
고속 SiC 에칭 기술
HIgh-rate SiC etching technology

등록 2008.09.24 ⋅ 155회 인용

출처 미쓰비시전기기보, 78권 6호 2004년, 일본어 1 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.09.16
고밀도 ECR 프라즈마 에칭장치와 만든 SiC에칭 특성에 관하여 기술 [高速SiCエッチング技術]
  • 라프레는 다양한 고객의 요구를 충족시키기 위해 고유한 기능을 가진 표면 처리제로 개발되었습니다.극박막과 우수한 내식성을 겸비한 라프레는 3종류의 금속 플레이크와 균...
  • 설파메이트욕에서 도금된 니켈-코발트 합금에 대해 설명하였다. 도금액 사용 매개변수 및 석출피막의 물리적 특성과 관련하여 용액 금속 비율, 양극 특성, 욕 온도, 붕산 함...
  • 황산염 염화물 용액에서 얻은 순수한 아연-철 합금 도금의 크롬산염 필름은 X선 광전자분광법으로 연구되었다. 합금도금에 존재하는 철은 크롬산염 피막의 두께에 영향을 미...
  • 중인 함량 (MP, 6~9 wt%) 의 도금을 위해 새로운 무연 무전해 Ni-P 도금 용액을 개발하였으며, 고인 (HP, 10~14 wt%) 도금을 얻기 위해 조성을 최적화하였다. 시약 (니켈염,...
  • 고주파 열처리 철강재료 소재표면을 고주파 유도전류에 따라 급열-급냉하여 소성하는 방법으로 특히 중탄소강ㆍ합금강ㆍ주조제품 등에 이용된다. 경화층의 두께는 0.4~5 ㎜...