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실리콘 및 사파이어 소재를 이용한 알루미늄의 양극산화 공정에 관한 연구
Fabrication of anodic aluminum oxide on Si and sapphire substrate
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자료요약
카테고리 : 양극산화 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2020.12.15
알루미늄 Al 소재 대신 실리콘 Si 과 Sapphire 소재을 이용하여 이들 소재위에 AAO 를 형성시키는 공정에 대한 연구를 수행하였다. 공정변수가 형성되는 AAO 의 특성에 미치는 영향을 조사 분석하여 각각의 소재에 대하여 최적의 구조를 갖는 AAO 를 형성
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밀착성 광택 금속성 니켈피막은 상기 표면에 적절한 전처리후 특별한 특성을 갖는 1차 무전해니켈도금을 포함하는 무전해공정에 의해 플라스틱 또는 다른 유전체 부분의...
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시중 알루미늄판에 세척액으로 가성소다용액을 이용할때 디하이드로옥시 벤젠의 부식억제 효과를 밝히는데 노력
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내식성이 우수한 희토류 자석의 제조방법 및 그것에 사용하는 도금욕을 제공한다. 희토류 원소를 함유하는 자석 소체에,니켈을 함유하는 제 1 보호막과, 니켈 및 황을 함유...
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무전해 도금된 Cu 박막과 FR-4 기판 사이의 계면 신뢰성 확보를 위해 desmear 습식표면 전처리를 도입하였으며, desmear 습식 표면 전처리에 따른 FR-4 기판과 무전해 Cu 도...
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1. 현상 : 초음파 용접 시 도금층의 박리 발생 2. 소재 정보 1) 원소재 : 구리(C1100) 2) 도금 : Ni도금(Watt욕 도금) 3. 상세 설명 - 초음파 용접 시 간헐적(약 1년 1회, ...