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표면거칠기에 대한 무전해 니켈-인 NiP 피막 기반의 최적화
Optimization of Electroless Ni-P Coatings Based on Surface Roughness

등록 2021.03.08 ⋅ 101회 인용

출처 Tribology Online, 3권 1호 2008년, 영어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.01.31
무전해 Ni-P 피막의 거칠기 특성에 대한 실험적 연구와 L27 Taguchi 직교 설계를 기반으로 한 도금 공정변수의 최적화를 제시하였다. 실험은 세가지 공정변수, 즉 욕 온도, 니켈용액 농도 및 환원제 농도의 조합을 활용하였다. 니켈 용액의 농도는 무전해 Ni-P 피막의 거칠기 특성을 제어하는데 가장 큰 영향을 미치는 것으...
  • 무전해 동도금에서 황산동과 첨가제 ,NaOH, 포르말린 넣고 도금액을 조성을 했습니다. 그런데 NaOH, 포르말린 분석이 틀리게나옵니다.(pH기기 검교정 했고, 적정액 f값도 잡...
  • 유기 인산염 착화제 Organophosphoric Chelating Agents |1| Amino Trimethylene Phosphonic Acid ([ATMP]) Bis(HexaMethylene Triamine Penta (Methylene Phosphonic Acid)...
  • 전해질 조성물은 주석이온, 하나 이상의 합금 금속의 이온, 산, 티오요소 유도체, 및 알칸올 아민, 폴리에틸렌이민, 알콕실화 방향족알콜, 및 이들의 배합물에서 선택된 첨가제
  • 인쇄회로 기판 (Printed Circuit Board: PCB)의 표면처리, 보다 상세하게는 인쇄회로 기판 제조공정 중 내층기판의 흑화처리 공정에 사용되는 산을 주재로 한 화성피막...
  • 금속의 전착 계수 2 금속 원 자 가 그램 당량 비중 전기화학 당량 mg/쿠롱 1A/dm2 통전석출양 1A×시간당 석출량 1 dm2/ m 또는 1g 석출 소요전기량 1dm2 1㎛ 중량 이온 m/...