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검색글 Fuliang Wang 1건
보이드가 없는 TSV 구리 충전용 단일 억제제 SH110의 실험 및 시뮬레이션
Experiment and simulation of single inhibitor SH110 for void‑free TSV copper filling

등록 2022.03.13 ⋅ 86회 인용

출처 Scientific Reports, 2021년, 영어 12 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.12.02
TSV (실리콘 관통 비아) 와의 3차원 통합은 유망한 마이크로 전자 상호 연결 기술이다. 3성분 첨가제는 보이드가 없는 TSV 충전에 일반적으로 사용된다. 그러나 첨가제 농도를 최적화하는 것은 비용이 많이 드는 과정이다. 이를 피하기 위해 단일 성분 첨가제가 개발되었다. 3-(2-(4,5-dihydrothiazol-2-yl) disulfanyl) pro...
  • 일반적인 2종류의 무전해 Pd욕을 이용하여 도금을 하고, 승온 스페돌(TDS) 및 X선석(XDR)c에 의한 Pd피막중 수소의 농도와 존재형태에 관하여 검토
  • 약 500 ~ 1400 PSI의 확장 내부응력을 갖는 피막을 제공하기 위해 6.5 ~ 9.5 %의 결정된 범위의 니켈을 포함하는 아연니켈합금도금을 철강 스트립에 전착하여 높은 연성...
  • 크롬 Cr 농도가 25 % 이하의 조성을 가진도금 그대로의 전기 아연-크롬 Zn-Cr 합금도금 피막의 결정구조를 밝히기 위하여, X선회절법을 이용한 결정구조 해석과, 도금피막의...
  • 아연 플레이크 기술은 특수 베이스 코트와 탑 코트를 조합하여 높은 수준의 부식 방지 기능을 제공합니다. 자동차 산업의 패스너, 호스 클램프, 클립 또는 브레이크 구성 요...
  • 24K 금으로 아연소재을 도금하는 방법이다. 이 방법은 소재을 사전탈지하고, 페인트 하지도장을 정전기적으로 도포하고 경화하고, 진공금속화로 금을 도금하고, 투명한 페인...