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경질 크롬 도금욕의 정화 - 조건과 요구
Purification of Hard Chromium Plating Baths—Options & Challenges

등록 : 2022.10.27 ⋅ 54회 인용

출처 : Plating & Surface Finishing, Apr 2002, 영어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.10.27
경질 크롬 도금욕을 처리하는 데 사용되는 두 가지 주요 전기화학 공정을 비교었다. 실험실 규모에서 얻은 결과로 제거율은 PCM 셀에서 약간 더 나은 반면 에너지 (시간전위)는 FCMP에서 더 낮은 것을 나타냈다. PCM 공정의 주요 단점은 음극액 pH의 증가와 그에 따른 침전으로 인한 슬러지 형성이다. 반면에 FCMP 셀에서 슬...