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유리표면의 에칭/리칭 처리
Chemical etching/leaching of glass surface

등록 : 2010.01.21 ⋅ 33회 인용

출처 : 표면기술, 44권 3호 1993년, 일어 4 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2015.01.23
산 또는 중성용액을 이용하여 유리표면을 에칭/리칭하여, 반사방지막을 만들어 레이져시스템의 광학소자로 이용하는 방법에 관하 설명
  • 크롬도금을 위한 전해 크롬산욕는 6가크롬을 기반으로하며, 촉매로 수용성 피리디늄 유형 화합물 (예 : 고리에 질소원자를 포함하는 5 탄소 원자 복소환 화합물) 을 포함 한다.
  • 마그네슘 합금에 대하여, 양호한 내식성을 가진 인산염 양극산화 처리에 관하여, 방식기구를 중심으로 피막의 특성을 소개
  • 금속전착 ^ Electrodeposition of Metal 전기적으로 음극에 붙는 것으로 환원되어 석출 됨. M＋→ M (cathode) 양극 현상 : M→M＋ (anode) 참고 금속전착
  • 시안화구리 스트라이크 도금 ^ Cyanide Copper Strike Plating Bath 정상적인 작업전류보다 높게 설정된 전류밀도를 이용하여 단시간 (30초~1분) 에 도금하여 소재와의 밀착...
  • 모재의 Cu 전석에 Cu-Sn계의 안정한 금속화합물을 합금전석에 의한 형성된 모재 Cu와 Sn의 확산을 억제하는것을 검토