로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 3923건

습식도금 자료분류

자료수 10977 건

추천글

Tag LIST

페놀설폰산욕에 의한 HCD 전기도금 연구
Study of HCD Electroplating By Phenolsulfonic Acid Baths

등록 : 2023.08.11 ⋅ 39회 인용

출처 : PLATING & SURFACE FINISHING, Jul 1997, 영어 5 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

자료 :

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 :
⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.06
메탄설폰산 및 알칸올설폰산과 같은 새로운 주석 도금욕을 광범위하게 시험하였다. 생산성이 높은 주석 도금 공정을 개발하기 위해 페놀설폰산 기반 욕에 의한 고전류 밀도 (HCD) 주석 도금을 연구하였다. 주석도금의 특성과 도금 조건 (전류 밀도, 주석 이온 농도, 유속) 사이의 관계를 조사하였다. 전해조 내 주석 이...
  • 최근개발된 수소취성의 비속측정기를 이용하여, 아연도금공정의 수소취성의 정도를 수치화하여 평가함에 따라, 열처리의 효과와 저수소취성도금에 관한 검토
  • WT
    WT ^ polyquaternium-2 Diaminoarea Polymer ^ Poly〔bis(2-chloroethyl) ether-alt-1,3-bis〔3-(dimethylamino)propyl〕urea〕 quaternized, solution CAS 68555-36-2 (C15...
  • 자동차의 전착도장에 관하여, 그 도장기능과 차체방청기술, 최근자동차도장공정 및 금후의 전착개발동향등에 관하여 해설
  • 광택제 함유 (0.4~6 A/sq dm) 가 얻어지는 광범위한 전류밀도에 대한 유기첨가제 (설포 알킬 폴리알콕실화 나프톨 및 벤질리덴-아세톤) 의 조합이 제안되었다. 주석 Sn(ii) ...
  • 계면활성제에 대한 이온으로작용하는 크롬(vi)을 회수하는 최적인 조건을 검토