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검색글 페놀설폰산 5건
페놀설폰산욕에 의한 HCD 전기도금 연구
Study of HCD Electroplating By Phenolsulfonic Acid Baths

등록 2023.08.11 ⋅ 60회 인용

출처 PLATING & SURFACE FINISHING, Jul 1997, 영어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.06
메탄설폰산 및 알칸올설폰산과 같은 새로운 주석 도금욕을 광범위하게 시험하였다. 생산성이 높은 주석 도금 공정을 개발하기 위해 페놀설폰산 기반 욕에 의한 고전류 밀도 (HCD) 주석 도금을 연구하였다. 주석도금의 특성과 도금 조건 (전류 밀도, 주석 이온 농도, 유속) 사이의 관계를 조사하였다. 전해조 내 주석 이...
  • 도금두께 측정 ^ Plating Thickness Tester 도금두께를 측정하는 방법으로는 크게 파괴식과 비파괴식으로 나눌수 있다. 파괴식 두께 측정방법 [전해식두께측정기|전해식 두...
  • NaAsO2를 함유한 에틸렌디아민팔라듐(ii) 착화용액으로 부터 펄스전해법으로 전석한후, 비정질 팔라듐 피막을 만들어, 전해조건의 영향과 피막의 비정질화의 원인을 고찰
  • • 왜 100 % 주석 Sn 광택 도금인까? - 많은 제조업체에서 이미 사용되고 있으며, 고객의 실적이 있다. - 100 % Sn 광택도금은 신뢰성의 역사를 가지고 제조 경험에서도 성공...
  • 일반적으로 대부분의 전기도금 공정에서 중요한 단계로 받아 들여지는 금속 전기도금 전에 금속의 표면 준비가 제시되었다. 기초 금속의 깨끗한 표면 영향에 대한 정의와 세...
  • 이온플레이팅 · Ion Plating 기계내부를 10-3~10-5 Pa 의 고진공으로 만들고, 전자 빔을 증착제에 조사하여 증발시킨다. 증착원에 전압을 가한 (+) 이온으로 증착 입자는 피...