로그인

검색

표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

검색글 PLATING 492건

습식도금 자료분류

자료수 11130 건

추천글

Tag LIST

페놀설폰산욕에 의한 HCD 전기도금 연구
Study of HCD Electroplating By Phenolsulfonic Acid Baths

등록 2023.08.11 ⋅ 77회 인용

출처 PLATING & SURFACE FINISHING, Jul 1997, 영어 5 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

기타

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

분류 ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.06
메탄설폰산 및 알칸올설폰산과 같은 새로운 주석 도금욕을 광범위하게 시험하였다. 생산성이 높은 주석 도금 공정을 개발하기 위해 페놀설폰산 기반 욕에 의한 고전류 밀도 (HCD) 주석 도금을 연구하였다. 주석도금의 특성과 도금 조건 (전류 밀도, 주석 이온 농도, 유속) 사이의 관계를 조사하였다. 전해조 내 주석 이...
  • 크롬 도금욕 ^ Chromium Plating Bath 크롬은 회색~백색의 금속으로 표면을 연마하면 우수한 광택성을 나타낸다. 크롬은 강하고 내마모성ㆍ내식성ㆍ내열성ㆍ도금 후의 밀착...
  • 화학문헌에는 도금공정중 크롬도금 용액에서 3가크롬 이온 Cr(iii) 을 적절하게 모니터링 하기위한 구체적이고 직접적인 분석방법이 없다. 이 보고서에서는 이 공정에서 3가...
  • 니켈 분말 석출에 사용되는 첨가제인 폴리 (에틸렌-알트-말레산 무수물) (EMA) 의 효과를 차아인산나트륨 환원제를 사용하여 연구하였다. EMA는 환원촉매 및 응집방지제 역...
  • 코발트-니켈 Co-Ni 합금막의 전석조건과 막의 미세구조와 기본적인 관계를 얻기 위하여, 첨가제없이 황산욕에서 여러 전위의 Co-Ni 합금막을 전석하여, 그 미세구조를 전 조...
  • 도금욕내에 니켈이온과 난용성 산화물로 a-아루미나 입자와의 반응을 전위차 측정법 및 유동전위법으로 검토하고, 니켈도금욕에서의 공석현상과 관련에 대한여 검토한 결과...