로그인

검색

검색글 2714건
차세대 기판 도금을 위한 새로운 무포름알데히드 무전해 구리
Novel formaldehyde-free electroless copper for plating on next generation substrates

등록 2023.08.15 ⋅ 62회 인용

출처 IMAPS, 2018, 영어 6 쪽

분류 연구

자료 있음(다운로드불가)

저자

Christian Wendeln1) Edith Steinhäuser2) Lutz Stamp3) Bexy Dosse-Gomez4) Elisa Langhammer6) Sebastian Reiber7) Sebastian Dünnebeil8 Sandra Röseler9)

기타

51st International Symposium on Microelectronics

자료

  • 관련자료가 없는 경우 관련사이트 또는 Web에서 검색하십시요.

자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.02.16
광범위한 용도로 사용할 수 있는 새로운 유형의 포름알데히드가 없는 무전해 구리 도금액에 대하여 설명하였다. 공정 성능의 손실 없이 기존 포름알데히드를 대체하여 인쇄 회로 기판(PCB) 생산 산업에 대한 지속 가능한 "녹색" 대안을 제공한다.
  • LOCTITE® 4850™ is designed for the assembly of difficult to bond materials and is specifically formulated to provide flexible bondlines. The product provides rap...
  • 폴리 우레탄 · polyurethan 폴리우레탄 결합이라는 구조를 갖고 있기 때문에 이렇게 부르고 있다. 매우 강인한 것이 특징이며, 고무 탄성을 가지고 있다. 이때문에 발포체로...
  • 치환 반응에 의한 무전해 주석-은 Sn-Ag 합금도금을 조사했다. 피로인산칼륨, 요오드화칼륨, 금속염, 티오우레아를 함유한 도금액을 사용하였다. (1첫째, 무전해 주석Sn 도...
  • 도금전 연마의 합리화 기술에 대하여 에메아에 의한 거친 연마의 융통성화와 유성연마재에 의한 버프연마에 대신하는 회전진동배럴의 문제점과 화학연마에 의하여 ...
  • 비전도체와 도체에 대한 무전해 니켈 초기 석출 및 후속 정상 상태 공정을 조사 하였다. 초기 니켈 석출 반응중 석출된 피막의 인 함량이 후속 정상 상태로 석출된 피막보다...