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검색글 Andrew I. Campbell 1건
무전해 도금의 동역학: 구리-디메틸아민 보란 시스템
Kinetics of Electroless Deposition : The Copper-Dimethylamine Borane System

등록 2023.10.14 ⋅ 77회 인용

출처 Langmuir, 26권 12호 2010년, 영어 7 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 구리/Cu | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.05.11
환원제로서 디메틸아민 보란(DMAB)을 사용하여 금에 구리를 무전해 도금하는 동역학 연구를 하였다. 두개의 반쪽 반응이 물리적으로 분리된 갈바니 전지 설정과 비교하면 30 nm min-1의 더 낮은 석출속도가 나타난다. 따라서 환원제의 산화 및 전체 공정에 대한 표면의 중요한 동역학 효과가 밝혀졌다. 공정의 효율...
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  • TiC 와 SiC 입자가포함된 Ni도금욕에서의 복합도금으로, TiC 및 SiC 입자첨가량이 도금막의 결정성, 형태, 공석량 및 경도에 주는 영향에 관하여 조사
  • 1. 고속 릴투릴용으로 고전류밀도와 고온에 균일한 광택도금 2. 단일첨가제 3. 보충 1000 Ah / 300~500 ml
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  • 금속 이온을 포함한 수용액으로부터 금속을 석출 시키는 방법에는 외부로부터 전류를 흘려주는 전기 도금법과 전기를 작용 시킬 필요가 없는 무전해도금법이 있다. 이 ...